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Propriétés statistiques des electrons dans un plasma haute température
Univ Europeenne - EAN : 9783639654387
Édition papier
EAN : 9783639654387
Paru le : 26 janv. 2017
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- EAN13 : 9783639654387
- Réf. fournisseur : 7026568
- Editeur : Univ Europeenne
- Date Parution : 26 janv. 2017
- Disponibilite : Disponible
- Barème de remise : NS
- Nombre de pages : 88
- Format : H:229 mm L:152 mm E:5 mm
- Poids : 142gr
- Interdit de retour : Retour interdit
- Résumé : La dynamique des électrons en présence d'une impureté de charge électrique positive dans un plasma chaud est étudiée avec la mécanique statistique classique et relativiste. Cette étude est effectuée dans la théorie du champ moyen et au sein du modèle de plasma à une composante (OCP). Le potentiel effectif du plasma est construit en tant que somme du potentiel créé par l'impureté (que nous avons pris de Kelbg et de Deutsh écranté), du potentiel du à tous les électrons ainsi que le potentiel du aux ions contractés pour former un fond continu uniforme de charges électriques positives. L'équation intégrale non linéaire gouvernant ce potentiel effectif est résolue numériquement par deux méthodes différentes. Cela nous a permis de calculer quelques propriétés statistiques comme la distribution du microchamp électrique sur l'impureté, la fonction d'autocorrélation temporelle du microchamp électrique, l'opérateur de collision et la constante diélectrique. Une comparaison avec la dynamique moléculaire a été faite.
