Nous utilisons des cookies pour améliorer votre expérience. Pour nous conformer à la nouvelle directive sur la vie privée, nous devons demander votre consentement à l’utilisation de ces cookies. En savoir plus.
Procédés plasmas pour le management thermique microélectronique
Univ Europeenne - EAN : 9786131528897
Édition papier
EAN : 9786131528897
Paru le : 11 août 2010
69,00 €
65,40 €
Disponible
Pour connaître votre prix et commander, identifiez-vous
Notre engagement qualité
-
Livraison gratuite
en France sans minimum
de commande -
Manquants maintenus
en commande
automatiquement -
Un interlocuteur
unique pour toutes
vos commandes -
Toutes les licences
numériques du marché
au tarif éditeur -
Assistance téléphonique
personalisée sur le
numérique -
Service client
Du Lundi au vendredi
de 9h à 18h
- EAN13 : 9786131528897
- Réf. fournisseur : 5030797
- Editeur : Univ Europeenne
- Date Parution : 11 août 2010
- Disponibilite : Disponible
- Barème de remise : NS
- Nombre de pages : 212
- Format : H:220 mm L:150 mm E:12 mm
- Poids : 319gr
- Interdit de retour : Retour interdit
- Résumé : Ces travaux sont axés sur la mise au point d'un procédé de synthése de couches minces à basse température d'un matériaux diélectrique à forte conductivité thermique pour la passivation de semi conducteur. Cette ouvrage s'articule d'une part sur la présentation de l'état des connaissance dans les domaines des matériaux diélectriques cristallins ainsi que des procédés plasma et d'autre part sur la présentation des méthodes permettant une compréhension fine des propriétés intrinséque des matériaux quel soit structural ou thermique. La seconde partie de cette ouvrage est constitué des études menées lors de mon doctorat au laboratoire Jean Rouxel de l'université de Nantes qui s'appuie principalement à liées les domaines des procédés et des matériaux afin d'en optimiser les propriétés.
- Biographie : Cyril Duquenne, docteur en sciences des matériaux de l'université de Nantes, étude d'ingénieur en technologie plasma à l'université d'Orléans, ingénieur en process microélectronique.
