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Optimisation et contrôle du procédé de projection plasma
Univ Europeenne - EAN : 9786131500404
Édition papier
EAN : 9786131500404
Paru le : 5 juil. 2010
49,00 €
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- EAN13 : 9786131500404
- Réf. fournisseur : 4818077
- Editeur : Univ Europeenne
- Date Parution : 5 juil. 2010
- Disponibilite : Disponible
- Barème de remise : NS
- Nombre de pages : 156
- Format : H:229 mm L:152 mm E:9 mm
- Poids : 239gr
- Interdit de retour : Retour interdit
- Résumé : La projection thermique à la torche à plasma est un procédé qui se caractérise par des phénomènes de fluctuations et des dérives paramétriques à différents temps caractéristiques. Dans ces travaux un système expert à base d''intelligence artificielle qui permette d''ajuster en temps réel les paramètres opératoires du procédé en fonction des valeurs mesurées sur les caractéristiques des particules (température et vitesse) a été développé. Considérant l''amplitude de ces dérives et fluctuations, la stratégie à adopter pour développer ce système dépend des corrections requises à appliquer aux caractéristiques en vol des particules. Le système offre la possibilité d''ajuster les paramètres opératoires dans le but d''assurer la reproductibilité du procédé et également, d''optimiser les conditions de la réalisation du dépôt en tenant compte des effets de l''usure de l''électrode en particulier. Ce système est flexible pour permettre un contrôle total basé sur des règles prédéfinies qui permettent de maintenir à valeurs constantes les caractéristiques en vol des particules en ajustant en temps réel l''intensité du courant d''arc, le débit total des gaz plasmagènes et la fraction d''hydrogène.
