Être ou paraître, entre amour et déni de soi !

Muse - EAN : 9786204958422
Patrick Louis RICHARD
Édition papier

EAN : 9786204958422

Paru le : 18 août 2022

26,90 € 25,50 €
Disponible
Pour connaître votre prix et commander, identifiez-vous
Notre engagement qualité
  • Benefits Livraison gratuite
    en France sans minimum
    de commande
  • Benefits Manquants maintenus
    en commande
    automatiquement
  • Benefits Un interlocuteur
    unique pour toutes
    vos commandes
  • Benefits Toutes les licences
    numériques du marché
    au tarif éditeur
  • Benefits Assistance téléphonique
    personalisée sur le
    numérique
  • Benefits Service client
    Du Lundi au vendredi
    de 9h à 18h
  • EAN13 : 9786204958422
  • Réf. éditeur : 1980976
  • Editeur : Muse
  • Date Parution : 18 août 2022
  • Disponibilite : Disponible
  • Barème de remise : NS
  • Nombre de pages : 92
  • Format : H:220 mm L:150 mm E:5 mm
  • Poids : 137gr
  • Interdit de retour : Retour interdit
  • Résumé : « Être ou paraître, entre amour et déni de soi » est un essai philosophique et pédagogique, invitant à une réflexion profonde sur les fondamentaux de la vie ; sur cet indispensable et incontournable chemin vers la connaissance et l'amour de soi ; sur ce choix, conscient ou inconscient, que nous faisons de conserver notre originalité, notre singularité, en toutes circonstances, ou bien d'être une copie absorbée par le Paraître, sans nous rendre compte qu'en agissant ainsi, c'est la vie et la personnalité des autres que nous calquons. La juste harmonie, le juste équilibre, ne se trouvent-ils pas dans la modulation, l'accommodation, de l'Être et non son abandon au Paraître, selon les situations, les environnements, les personnes ?
  • Biographie : Ancien élève du CNAM, spécialiste de l'amélioration de la performance managériale et organisationnelle, Patrick Louis Richard, homme tourné vers autrui, est l'auteur de plusieurs ouvrages éclectiques : essais philosophiques, romans, contes, de chroniques digitales, de poésies et de citations.
Haut de page
Copyright 2025 Cufay. Tous droits réservés.